Wissenschaftliche 3D-Drucksysteme

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Das Quantum X shape Doppel-Photonen-Maskenlose Lithographie-System ist eine wahre Vielseitigkeit. Das System basiert auf der Dual-Photon-Polymerisation-Technologie und ist nicht nur ein Modell für die schnelle Formgebung, sondern eignet sich auch für die Massenproduktion von 2,5D- und 3D-Formen mit jeder Submikron-Genauigkeit auf dem Wafer. Mit dem neuen Quantum X shape können Sie jede 2,5D- und 3D-Mikronanostruktur drucken und eine echte Designfreiheit bieten. Dieses System ermöglicht Ihnen eine Vielzahl von Strukturen mit hohen Höhenverhältnissen.

Produktdetails

Als führendes 3D-Drucksystem seiner Klasse

Quantum X Form Druckbar in jeder Form mit einer Mindestgröße von bis zu 100 nm(R)ein)weniger als 5 nm,DruckenGröße bis zu 25 cm

Ausgezeichnetes Drucksystem mit automatisiertem Tropfenmodul für eine Effizienz von bis zu 200 Merkmalen über Nacht.

Universelles Hochleistungs-Doppelphotonen-Polymer für Polymer- und Glasdruck.

Präzision neu gestalten.

Als von der Industrie anerkanntNanoscribeDie zweite Generation der Quantum X-Plattform,Quantum X shape Dual-Photon-Maskenlose LithographieEigentümer im Bereich der 3D-MikronanobearbeitungErstaunlich hochGenauigkeit im Vergleich zuNanoscribeUnternehmen bahnbrechend bei OberflächenstrukturanwendungenDoppelphotonische Graustufen(2GL ®)。 Ganz neu.Quantum X FormDie hohe Präzision hängt von seinem Isotin-Modulationsverhältnis und dem ultrafeinen Verarbeitungsgitter ab, wodurch die Größenkontrolle des Subisotins erreicht wird. Außerdem profitieren vonDoppelphotonische GraustufenDurch die feine Einstellung des Bodens erreicht das System eine ultraglatte Herstellung von Oberflächenmikrostrukturen, während eine hochpräzise Formenkontrolle aufrechterhalten wird.

Ausgabe neu gestalten.

Quantum X shape Dual-Photon-Maskenlose LithographieNicht nur in der Biomedizin, Mikrooptik, MEMS、 Das ideale Werkzeug für die schnelle Prototypierung von Geräten in Mikrokanalen, Oberflächentechnik und vielen anderen Bereichen ist gleichzeitig ein einfaches Werkzeug für die Massenproduktion kleiner Wafer-basierter Struktureinheiten.

Usability neu gestalten.

Die Funktionalität der Druckdateien wird durch eine integrierte Touchscreen-Steuerung erheblich verbessert. Durch die im System enthaltene nanoConnectX-Software wird die Fernüberwachung von Druckdateien und die Konfiguration für mehrere Benutzer ermöglicht, um die industrielle Standardisierung und die effiziente Wafer-basierte Produktion zu fördern.

Hauptmerkmale:

* Nanoskala-Druck: Charakteristik-Skala-Steuerung in beliebiger Raumrichtung bis zu 100nm

* Hochgeschwindigkeits-3D-Mikronanobearbeitung mit Ultra-Fast-Physin-Steuerung und 100nm-Bearbeitungsgitter

* Ausgezeichnete Oszenoskopie Track Control garantiertschnellGenauigkeit der Spur bei Scangeschwindigkeit

* Hochpräzise Laserenergiesteuerung und -positionierung durch automatisierte Selbstkalibrierungswege

* Große Auswahl an bis zu 6-Zoll-Substraten und Siliziumflatten

* Industrielle Serienproduktion: Übernachtungsproduktion von 200 Standard-Skalen-Strukturen

* Touchscreen und Fernbedienung für Praxis und Erlebnis

* Schnelle Prototypierung, hohe Präzision, hohe Entwurfsfreiheit, einfache und klare Arbeitsabläufe

* Industriegeprüfte Wafer-Serienproduktion

* Allgemeines und spezielles Druckmaterial

* Kompatibel mit eigenständigen und Drittanbieter-Druckmaterialien

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